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ACF - Vortrag "Herstellungsverfahren von dünnen Schichten" von Sven Wiegand von Sven Wiegand.
Date post:05-Apr-2015
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  • Folie 1
  • ACF - Vortrag "Herstellungsverfahren von dnnen Schichten" von Sven Wiegand von Sven Wiegand
  • Folie 2
  • Verfahren zur Herstellung dnner Oberflchen Gliederung: 1. bersicht ber Beschichtungsverfahren 2. PVD - Verfahren 3. CVD - Verfahren 4. Fazit: Vor- und Nachteile der Verfahren
  • Folie 3
  • Verfahren zur Oberflchenbeschichtung Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krmer, RWTH Aachen
  • Folie 4
  • Beispiele fr Schichten [ www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf ]
  • Folie 5
  • Folie 6
  • PVD - Verfahren
  • Folie 7
  • PVD-Varianten Delmdahl, Physik Journal 4 (2005), Nr. 11 Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krmer, RWTH Aachen
  • Folie 8
  • Molekularstrahlepitaxie (MBE) [Dissertation Sven Beyer "Herstellung und Charakterisierung niedrigdimensionaler Elektronensysteme mit Hilfe von in situ tzen und Molekularstrahl Epitaxie", Hamburg] T = 580 C p = 10 -11 Torr
  • Folie 9
  • PVD [Dnnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de]
  • Folie 10
  • Thornton-Zonen Dissertation Yvette Dietzel, "Beschichtung von textilen Flchen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen- Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern", TU-Dresden
  • Folie 11
  • PVD-Anwendung: Uhrenbeschichtung 1 - Ein Uhrgehuse aus rostfreiem Stahl kommt in die PVD-Kammer 2 - Die Kammer wird auf 10 bis 6 mbar evakuiert 3 - Argon wird in die Kammer eingelassen und mit einer elektrischen Entladung von mehreren tausend Volt ionisiert 4 - Die positiv geladenen Argonionen beschieen eine negativ geladene Titanplatte 5 - Die durch den Beschuss freigesetzten Ti-Atome werden durch das polarisierte Gehuse angezogen 6 - Stickstoff wird zustzlich in die Kammer gefhrt und verbindet sich mit den Titanatomen; das entstehende TiN berzieht das Gehuse mit einer 0,7 bis 1,0 Mikrometer starken Schicht 7 - Ebenfalls unter Vakuum wird eine 0,15 bis 0,3 Mikrometer starke Goldschicht aufgedampft 8 - Das beschichtete Uhrengehue verlt die Kammer [www.longines.com]
  • Folie 12
  • TiN-beschichtete Werkstcke
  • Folie 13
  • Chemical vapour deposition CVD
  • Folie 14
  • CVD - Reaktionen
  • Folie 15
  • Chemical vapour deposition CVD
  • Folie 16
  • [Dnnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de
  • Folie 17
  • LPCVD www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf ]
  • Folie 18
  • CVD PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition): mittels eines Plasmas werden die chemischen Reaktionen initiiert mittels eines Plasmas werden die chemischen Reaktionen initiiert Vorteil: geringere Temperaturen als bei einer normalen CVD (ca. 400 - 500 C) Vorteil: geringere Temperaturen als bei einer normalen CVD (ca. 400 - 500 C)
  • Folie 19
  • Epitaktisches Wachstum www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf
  • Folie 20
  • CVD - Anwendung CVD - Anwendung [Dnnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de]
  • Folie 21
  • Unterschiede zwischen PVD und CVD CVD-Schichten bedecken die Oberflche gleichmig, bei PVD- Beschichtungsverfahren kommt es wegen der gerichteten Flugbahn der Teilchen bei dreidimensionalen Oberflchen zu ungleichmiger Beschichtung ("Sichtlinien-Problem") CVD PVD
  • Folie 22
  • Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krmer, RWTH Aachen
  • Folie 23
  • Folie 24
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