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ESD-Schutz
Voraussetzung fr den erfolgreichen
Aufbau zuverlssiger elektronischerSysteme
14.08.2012, FED-Regionaltreffen Berlin
Hans-Joachim Gnther, ESD-Consult&ServiceDr.-Ing. Bernd Schildwach, Ing.-Bro QUAPRO
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Der Physiker sagt:
ESD-Schutz ist ganz einfach
2. Sicherung einer langsamen Entladung,so dass die dabei entstehende Stromstrke keineSchden verursacht.
1. Vermeidungen von Aufladungen,die mit ihrem Spannungswert ein Bauelementgefhrden knnen.
Der Praktiker wei:
Das Radfahren ist auch ganz einfach:Treten, Treten und Lenken.
Aber wie lange bent igt mancher dies zu beherrschen?
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Triboelektrizitt
C = *A/dU = Q / C
C = Kapazitt; Q = Gesamtladung; U = Spannung
= Dielektrizittskonstante; A = Berhrungsflche; d = Abstand
U =Q*d*A
U1 = 1 mV
d1 = 1nm
----
++++
----
++++
d = 0,1m
U1 > 1 kV
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Einf lussfaktoren fr Triboelektrizitt
Q*d*AU =
AAbstandstand
Material(Cohnsche Tabelle)
Berhrungsflche(Klar-sichthllen))
Weitere Faktoren:
o Reibung (Triboelektrizitt=Reibungselektrizitt)o Anpressdrucko Trenngeschwindigkeit
Gesamtladung
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Luft
Menschlicher Krper
GlasMenschliches Haar
Nylon
Wolle
Seide
Aluminium
Papier
BaumwolleEisen
Holz
Hartgummi
Nickel Kupfer
Messing Silber
Gold Platin
KunstseidePolysteren
Polyester
Silizium
Cohn sche Tabelle
+positiv
-negativ
Mensch
und
UmfeldAufla
dung
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Influenz
++++
++++++
----
------
--
------
Polarisation eines elektrisch leitfhigenKrpers, der sich isoliert in einemelektrostatischen Feld befindet
-++-
-++--+
-+-+
-++--+
nach Verlassen des elektrostatischenFeldes gleichen sich die Ladungenwieder aus
++
++++++
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Risiko durch Influenz
----
------
--
----
--
--
---
--
---
bei kurzzeitiger Erdung wird die positive Ladungdurch den Erdkontakt ausgeglichen
nach Verlassen des elektrostatischen Feldesberwiegen die negativen Ladungstrger
++
++++++
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Einfluss der Luftfeuchte
A: Laufen auf einer Gummimatte
B: Aufnehmen eines Plastik-beutels von der Werkbank
C: Laufen auf einem Vinyl-Bodenber eine Entfernung von 6m
D: Aufstehen von einem Stuhl
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Mollirdiagramm
Relative Luft feuchte
10 20 30 40 50Rel. Luftfeuchte auen RH1 [%]
10
20
30
40
50
Re
l.Lu
ftfeuc
hteinnen
RH2[%]
(Innen
temp
era
tur:
22C)
-10C
0C
10C
20C
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mJ
10
1
0,1
0,01
0,001
0,0001
CMOS schnelle Trs. low-Power Trs. kl. Gleichr. Z-Dioden 0,3 1 3 10 (kV)
im Menschen gespeicherte Energie ( W = 0,5 C*U2 , Kap. des Menschen ca. 200 pF )
Strungs-/Zerstrungs-
energie in mJ
min/ max-Schwelle
Energieempfindlichkeiten
Das Risiko
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ESD-Hufigkeiten und Risikobereiche (Entwicklungsumgebung)
0-0,5kV 0,5 -1,0 1,0-1,7 1,7-3,0 3,0-5,0 5,0-8,0 >8,0
%
kV
36 28 208 5 2 1
Wahrnehmungsschwelle90% 10%
MOSFET
JFET
BIPOL. TRS.
SCHOTTKY-TTL
CMOS
Quelle: Baumgrtner/GrtnerESD-Elektrostatische Entladungen
Das Risiko
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Ziel:
Erarbeitung einesESD-Schutzprogramms
Referenzen:- DIN EN 61340-5-1:2008- DIN EN 61340-5-1, Beiblatt 1
(IEC/TR 61340-5-2:2007)
- ANSI/ESD S20.20-2007Durchsetzung wirksamer Manahmenfr den durchgngigen ESD-Schutz
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DIN EN 61340-2-1:2003,
Elektrostatik, Messverfahren Fhigkeit von Materialien undErzeugnissen, elektrostatische Ladungen abzuleiten
DIN EN 61340-2-3: 2000,Elektrostatik, Prfverfahren zur Bestimmung des Widerstandes und desspezifischen Widerstandes von festen planen Werkstoffen, die zur
Vermeidung elektrostatischer Aufladungen verwendet werden.
DIN EN 61340-3-1:2003Elektrostatik, Verfahren zur Simulation elektrostatischer Entladungen Human Body Model (HBM) Bauelementeprfung
DIN EN 61340-3-2:2003Elektrostatik, Verfahren zur Simulation elektrostatischer Entladungen Machine Model (MM) - Bauelementeprfung
Referenzen
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ESD-Schutzprogramm-
Plan
Welche Geschftsstellen?Welche Bereiche?Welche Prozesse?Welche Verantwortungsbereiche?
Ge
ltungsb
ere
ich
Zum Beispiel:- Erarbeitung neuer Vorschlge zur Gestaltung des
ESD-Schutzesoder
- Realisierung und Durchsetzung der notwendigenManahmen zum ESD-Schutz ?
ESD-Schutzprogramm
Ziele
Voraussetzungen
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ESD-Schutzprogramm
Planung der Anforderungen an:
1. Schulungsplan
2. berprfung der Einhaltung3. Erdungs-/Anschlusssysteme4. Personenerdung5. Schutzzonenanforderungen6. Verpackungssysteme7. Kennzeichnungen
Von der Norm empfohlene Inhalte eines
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Das Risiko
Aufladungen lassen sich in Arbeitsprozessen nicht vermeiden, jedochschdigende Potenzialunterschiede, die zu ESD fhren knnen.
Es muss ein gelenkter Potenzialausgleich realisiert werden, der sichert,dass die Entladung nicht ber gefhrdete elektronische Bauelementeerfolgt und dabei die Geschwindigkeit der vorhandenen Arbeitsprozessebeachtet.
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Schutzmanahmen, die wir heute treffen, knnen bereits
morgen durch Technologieentwicklungen unwirksam sein.
Entwicklung von Halbleiterstrukturen
1985: 1500nm1990: 700nm
1998: 200nm2000: 130nm2002: 90nm2005: 65nm2007: 45nm
2008: 32nm2010: 28nm2012: 20nm
Das Risiko
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1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
2. Phase:Analyse des SOLL-Zustandes
3. Phase: Konzeption einer nachhaltigen und angemessenen ESD-geschtzten Handhabung von elektronischen Bauelementen
4. Phase: Beschaffung, Realisierung,Sicherung der ESD-Schutzmanahmen durch das QM-System
5. Phase: Schulung, Training, Motivation des Personals
6. Phase: kontinuierliche Verbesserungen, Analysen, Audits
Projektlebenszykluszum Aufbau und kont inuierlichen Verbesserung eines
ESD-Schutzprogramms
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Entwicklung,Design
Material,elektr.
Kompo-nenten
Fertigung PrfungLagerung,Vertrieb
Schwachstellen, Fehlerquellen-Analyse, z.B.:Wo sind ESDS-gefhrdende Prozesse vorhanden?
Sind die Schutzmanahmen ausreichend?
Beschaffung
Analyse im geplanten Geltungsbereich
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Analyse aller verwendeten elektronischen Bauelemente / Baugruppen
Analyse der Kenntnisse des Personals
Analyse der Technologien und Ablufe
Analyse bereits vorhandener ESD-Schutzmanahmen und derenWirksamkeit
Analyse von bereits aufgetretenen Fehlern
Analyse des notwendigen Publikumsverkehrs
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Welche elektronischen Bauelemente werden im Geltungsbereichgehandhabt ?(beschafft/transportiert/verarbeitet/bestckt/gemessen/getestet/verpackt)
Wo, an welchen Arbeitspltzen erfolgt welche Handhabung?
Welche ESD-empfindlichen Bauelemente (ESDS) werden bereitsgehandhabt?
Welche Spannungsempfindlichkeitsschwellen sind bei diesenBauelementen (ESDS) zu beachten?
Welche Ladespannungen sind bereits bei welchen Ttigkeiten bekannt?
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Klasse Spannungsbereich
Human Body Model
0 < 250V
1A 250V bis < 500V1B 500V bis < 1.000V1C 1.000V bis < 2.000V2 2.000V bis < 4.000V3A 4.000V bis < 8.000V
3B > 8.000V
Spannungsempfindlichkeitsklassen nach ESD Association
Quelle: IEC 61340-3-1:2002
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Klasse Spannungsbereich
Human Body Model
0 < 250V
1A 250V bis < 500V1B 500V bis < 1.000V1C 1.000V bis < 2.000V2 2.000V bis < 4.000V3A 4.000V bis < 8.000V
3B > 8.000V
Spannungsempfindlichkeitsklassen nach ESD Association
Quelle: IEC 61340-3-1:2002
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Klasse Spannungsbereich
Charge Device Model
C1 < 125V
C2 125V bis < 250VC3 250V bis < 500VC4 500V bis < 1.000VC5 1.000V bis < 1.500VC6 1.500V bis < 2.000V
C7 > 2.000V
Spannungsempfindlichkeitsklassen nach ESD Association
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Klasse Spannungsbereich
Machine Model
M1 < 100V
M2 100V bis < 200VM3 200V bis < 400VM4 > 400V
Spannungsempfindlichkeitsklassen nach ESD Association
Quelle: IEC 61340-3-2:2002
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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ESD-Schutzklassen:1C, M2, C4
ESD-Empfindlichkeit
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Klasseneinteilung fr ESD-Empfindl ichkeiten
Achtung:
Es gibt unterschiedliche Klassenbenennungen!
ESD-Empfindlichkeit
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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Device type ESD withstand voltagesensitivity HBM
Class
MR heads, RF FETs 10 - 100 V 0
Power MOSFETs, PIN diodes, laser diodes 100 - 300 V 0
Pre - 1990 VLSI 400 - 1000 V 1A
Modern VSLI 1.000 - 3.000 V 1C
HCMOS 1.500 - 3.000 V 1C
CMOS B Series 2.000 - 5.000 V 2
Linear MOS 800 - 4.000 V 2
Small geometry older bipolar 600 - 6.000 V 1B
Small geometry modern bipolar 2.000 - 8.000 V 2
Power bipolar 7.000 - 25.000 V 3A
Film resistor 1.000 - 5.000 V 1C
ESD-Empfindl ichkeit und Klasseneinteilung nach ESDA
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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ESD-Empfindlichkeit, Klasseneinteilung nach ESA
1. Phase: Analyse des IST-Zustandes
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- Class 1: Sensitiv ity Range 0 to < 1.000 Volts - Metal Oxid Semiconductor (MOS) devices, including C, D, N, P, V and other MOStechnology without protective circuitry, or protective circuitry.
Surface Acoustic Wave (SAW) devices. Operational Amplifiers (OP AMP) with unprotected MOS capacitors. Junction Field Effect Transistors (JFETs) Silicon Controlled Rectifiers (SCRs) with to 0,1%; power
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Welche Prozesse mssen aus der IST-Analyse gendert werden?
Welche Prozesse sind fr eine Neueinfhrung geplant und welcheArbeitsgeschwindigkeiten haben die neuen Prozesse?
Welche Ableitwiderstnde mssen erreicht werden?
Welche neuen Bauelemente werden fr neue Produkte verwendenund welche ESD-Empfindl ichkeiten weisen diese auf?
Welche Lieferanten werden mit der Fertigung von Teilsystemenbeauftragt?
Welches Personal ist in ESD zu schtzenden Prozessen eingesetzt?
2. Phase: Analyse des Sollzustandes
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Basis-ESD-Schutzprogramm knnte beinhalten:A. Geerdete Arbeitsoberflche,B. Personal, geerdet mit einem Handgelenkerdungsband,C. ESD-Schutzverpackung, um ESDS von einem Prozess zum
nchsten zu transportieren,
Komplexes-ESD-Schutzprogramm knnte beinhalten:A. Geerdete Arbeitsoberflche,B. Personal, geerdet ber ein permanent berprftes
Handgelenkerdungsband,
C. Personal, geerdet ber ESD-Schuhwerk und leitfhiger Fuboden,D. Personal, das geerdet ESD-Kittel trgt,E. Ionisation an jedem Arbeitsplatz
Handhabung von elektronischen Bauteilen in den Prozessen
3. Phase: Konzeption des ESD-Schutzes
Der Schutzgrad richtet sich nach den Bauteilen und Prozessschritten
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AnzustrebenderWertebereich
3. Phase: Konzeption des ESD-Schutzes
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Quelle: Karl H. Helling, Elektrostatik Institut Berlin
3. Phase: Konzeption des ESD-Schutzes
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1. Es gibt keinen allgemeinen ESD-Schutz.
2. Schutzmanahmen mssen in Abhngigkeit vonden konkreten Erfordernissen im Unternehmenaufgebaut, aufrechterhalten und kontinuierlichverbessert werden.
3. Normen (z.B. DIN EN 61340-5-1) sindanwendbare Referenzen und mssen jedoch aufdie Erfordernisse im Unternehmen angemessenangewendet werden.
4. Der ESD-Schutz muss ein Teil der geltendenOrganisationsregeln werden.
5. Die Organisationsregeln zur Sicherung der Produktqualittsind Bestandteil des Qualittsmanagementsystems.
Thesen:
4. Phase: Realisierung
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Integration des ESD-Schutzes in dasQualittsmanagementsystem der Organisation
Forderung der DIN EN 61340-5-1:2008Jedes Unternehmen entwickelt sein- eigenes,- unternehmensspezifisches und- mit dem betrieblichen QMS konformesESD-Schutzprogramm.
4. Phase: Realisierung
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Klrung der Verantwort lichkeiten durch die Oberste Leitung :- Einfhrung der Schutzvorkehrungen nach DIN EN 61340-5-1,
- Einsetzen des ESD-SchutzbeauftragtenESD-Schutzbeauftragter:- Verantwortlich fr Schutz der ESDS und Umsetzung der
DIN EN 61340-5-1- Erarbeitung des ESD-Schutzprogramms
Der ESD-Schutzbeauftragter (Normenbezeichnung: ESD-Beauftragter oderESD-Koordinator ) kann bei Erfordernis weitere Beauftragte einsetzen.
4. Phase: Realisierung
DIN EN ISO9001:2008
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Angemessenheit der anzufertigenden
QM-Darlegungen(Umfang, Darstellungstiefe, Art der Darstellung,Sprache, Formulierungen)
AA01
Prozess-Beschreibungen
QM-Handbuch
AA02
AA03
ESD-Schutz-Programm
4. Phase: Realisierung
DIN EN ISO9001:2008
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Schaffung von Vertrauen durch eineZertifizierung des QM-Systems:
Nachweis und Besttigung derQualittsfhigkeit von L ieferantenin bereinstimmungmit einer Referenznorm durch eineunabhngige Stelle
Zertifikat
4. Phase: Realisierung
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5. Phase: Schulung, Training,Motivation des Personals
Die Kenntnisse und Motivation des Personals sind die Grundlage frdie Akzeptanz der festgelegten Handhabungs- und Prozessschritte.
Die kompetente Mitwirkung des Personals ist eine Voraussetzung zurAufrechterhaltung und kontinuierliche Verbesserung der ESD-
Schutzfhigkeit unter Beachtung der Wirtschaftlichkeit.
Schulungs-plan
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Nchster Termin:16.-18.10.2012
in Erlangen
ESD-Schutz-
management
mit Zertifizierung